“内爆雕刻”技术可在三维材料内精确刻写结构|光学

财联社5月15日电，美国麻省理工学院（MIT）研究团队开发出一种名为“内爆雕刻”的新型纳米制造技术，可在三维材料内部精确刻写结构。该技术加工精度优于100纳米，并成功制造出可用于可见光计算的微型三维光子器件，为可见光计算和高速光学处理提供了新的制造方案。相关成果发表于最新一期《自然·光子学》杂志。